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抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响

发表时间:2014-11-29

  抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响

  平面抛光过程中,材料的去除是由关系复杂的多个因素相互作用的结果。而样品下方的抛光液的流动特性(如液流层厚度等)直接影响到平面抛光过程中化学作用和机械作用的效果,进而影响着工件表面的加工质量。

  图 4.8 抛光盘转速对表面粗糙度的影响

  如图 4.8 所示为抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响。从图可知抛光盘转速在小于 60r/min 时,表面粗糙度随抛光盘转速的增加而减小,并在 60r/min 时达到最小值 Ra0.028 ,当抛光盘转速大于 60r/min 继 续增加时,合金表面的粗糙度值增大。因为试验中抛光液的流量是有限的,在一定范围内,相同抛光载荷的条件下,抛光盘转速增加使得抛光液在抛光垫上的流 动 速度增加,因此盘面上抛光液液膜的支撑力也会增加,所以为了保持液膜负荷力与抛光压力相互平衡,抛光液液膜的最小厚度增加。

  同时,在抛光液膜最小厚度相同的情况下,抛光盘转速的增加,使得抛光液动压效应增强,液膜所承受的负荷力增大,所以为了使抛光液膜能在所受载荷不变的 条 件下达到受力的平衡,只有通过加大抛光液流场内液膜厚度的方式来减小液膜负荷力,同时也使得最小抛光液膜厚度增加。而当抛光盘转速过大时,抛光液在盘 面上 受到的离心力增大,部分抛光液未到达抛光区域即被甩出抛光盘面,导致抛光区域液膜的抛光液供应不足,同时此时抛光压力的作用使得样品与抛光垫之间的 间隙尺 寸很小,抛光液的补充更加困难。所以过高的抛光盘转速,使抛光液膜分布不均匀,抛光后表面质量变差。试验还发现当抛光盘转速过大时,抛光盘盘面抖 动较大, 机床稳定性较差,也不利于得到完美的表面。因此,兼顾多种因素,平面抛光过程中的抛光盘转速应该控制在 60r/min 左右比较合适。

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